第584章 国产光刻机崛起的希望！高通？小丑（1 / 2）

第585章 国产光刻机崛起的希望！高通？小丑罢了！

EUV光源，即13.5纳米波长的极深紫外光，是实现「超精密电路雕刻」的核心，直接决定了晶片的最小线宽丶集成度与性能上限。

只需一次曝光，就能把掩膜版上的电路图，复制到晶圆表层。

而传统的DUV光刻机，需通过「多重曝光」，才能形成晶片所需的精细线路。

具体来说，就是要对同一区域的光刻胶进行2到4次光刻与显影操作，最终效果才相当于 EUV光刻机一次曝光所能达到的水平。

梁劲松从格罗方德丶联华电子手里购买的NXT 1950i DUV光刻机，虽然也能生产14纳米丶乃至10纳米的晶片，但必须利用多重曝光工艺。

然而，多次曝光会导致光刻步骤增加，生产周期变长丶良品率骤减丶成本迅速上升，至少要高个30%到50%。

这也是为何阿斯麦只要不向华国的Fab工厂出售EUV光刻机，便能牢牢卡住整个半导体行业脖子的主要原因。

即便掌握了其他关键技术，也会因制造成本居高不下，从而失去商业价值与市场竞争力。

就拿同一款晶片产品来说，高通以20美币的价格出售仍有毛利可赚，但国内晶片制造商若同样以20美币的价格售卖，反而要亏损三成。

面对这样的成本与盈利差距，采购方自然不愿买单。

陈延森提出的磁约束放电激发方式，则放弃了雷射轰击液态金属锡丶激发极深紫外光的方案，转而采用在强磁场约束下，通过高功率脉冲放电，在金属锡靶表面产生稳定丶高亮度等离子体的技术路径。

优点显而易见，固态靶材加高压放电，机械结构更简单，稳定性更高。

这是一项差异化极大的技术，可以绕过大量现有的LPP专利壁垒墙。

「辛苦了，继续在磁约束放电激发技术的基础上，深耕延伸专利，以防欧美的半导体公司使用微创新的手段，反过来限制我们。」

陈延森在听完林南的汇报后，当即叮嘱道。

高通为什麽栽了？

还不是他在射频丶通信解码等技术上，设置了全新的专利壁垒，把高通的出口给堵住了。

要不然，保罗·雅各布能心甘情愿地与天工科技签订专利交叉授权协议？

想都别想！

自己走过的路，当然要堵死！

他可不想有朝一日，突然冒出来一家公司，起诉星源科技侵权。

「好的老板，我知道构建专利生态壁垒的重要性。」林南立即应道。

他是沪城光学精密机械研究所的高级工程师，在行业内小有名气。

之前，星源科技和华科协会下属光电所联手推进攻关计划时，胡锐晖就向陈延森推荐了林南。

陈延森要钱给钱，要器材给器材，完全是一副财大气粗的样子。

林南在研究所蹉跎了十几年，眼看民营公司的研究员都拿到了诺贝尔化学奖，他哪里还坐得住？

在收到陈延森的邀请后，二话不说，就加入了星源科技的光学研究实验室，与光电所的院士们并肩作战，试图另辟蹊径，寻找一种可商用的EUV光源激发方式。

起初毫无进展，直到陈延森指了一条天马行空的路线。

用「电磁场」代替「雷射」作为激发和约束等离子体的手段，在放电区域周围设置一组超导磁体线圈，产生一个特殊的磁镜场构型。

先用脉冲电流激发等离子体，再用多层反射镜来收集13.5纳米的波长，最后聚焦和输出。

林南原本不以为然，但在研究一段时间后，他发现老板的方案并非是空想，而是具备极强的可实现性。

事实证明，这条路是对的！

「行，先这样。」

陈延森极为平淡地挂了电话。

在他看来，光刻技术是个无比庞大的环节，除去光源部分，物镜系统丶双工作台丶光刻胶等模块也是重中之重。

搞定EUV光源的激发方式，不过是千里之行，才走一步而已。

另一边。

林南暗自咋舌，表情有些失控，他其实很想再打回去告诉老板：「凭藉这项技术，明年拿个国家最高科学技术奖，也不是没有可能啊！」

可他转念一想，深蓝科技还有三个诺贝尔化学奖的获得者，老板的反应平淡也很正常。

由于『磁约束放电等离子体光源』是星源科技和华科协会的共同研究成果，消息在国内的科学界飞速传开。

胡锐晖在得知后，猛地站起身，根本不敢相信。

「这才四个月不到，就特麽有成果了？开什麽玩笑？」

胡锐晖在办公室里走来走去，竟破天荒地爆了粗口。

同一时间，哈工大光学实验室和龙州光机所也收到了消息。

第一反应，假的！

可他们在反覆验证后，又不得不相信，星源科技和燕京光电所，还真把EUV光源技术给搞了出来。

并且，还成功绕过了阿斯麦丶卡尔蔡司丶山星丶湾积电和Cymer构筑的专利防御墙。

两个小时后，李青松接到胡锐晖的电话。

「先封锁消息，让安国协会的工作人员立刻赶到沪城，所有参与了研发过程的人员，一律签署保密条例。」

李青松在明白这项技术的重要性后，脸色瞬间变得凝重起来，冲着一旁的秘书吩咐道。

他在星源科技身上，看到了国产光刻机崛起的希望！

「好的，李先生。」秘书不敢耽搁，抓起电话就开始联系安国协会，将需要签署保密条例的人员名单丶对接流程一一梳理清楚。

李青松则站在办公室的玻璃窗前，望着燕京灰蒙蒙的天空，不由地陷入了沉思。

星源科技在EUV光源领域的技术突破，像一道惊雷，劈开了自研光刻机路上的迷雾，可随之而来的，还有无数即将袭来的暗流。

一旦消息泄露，阿斯麦丶卡尔蔡司那些国际巨头绝不会坐视不理，要麽通过专利诉讼拖延进度，要麽联合供应链施压，甚至可能动用盘外力量干预。

毕竟，半导体行业从来都不只是单纯的技术竞争，背后牵扯着太多的利益博弈。

星源科技的发展让人出乎意料！

与此同时。